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Vollständiger Leitfaden zum Leiterplattenherstellungsprozess | HDI-Leiterplattenproduktion erklärt

01.04.2025

Hinter jedem zuverlässigen elektronischen Gerät steckt eine sorgfältig gefertigte Leiterplatte (PCB). Von der 5G-Infrastruktur über Automobilelektronik und Medizintechnik bis hin zu Unterhaltungselektronik bilden Leiterplatten das Rückgrat elektronischer Systeme. Für Entwicklungsingenieure, Qualitätsmanager und Einkäufer, die höchste Leistung und Zuverlässigkeit anstreben, ist das Verständnis des detaillierten Produktionsprozesses unerlässlich.

In diesem Artikel stellen wir den gesamten Leiterplattenherstellungsprozess vor, von der Bildgebung der inneren Lagen bis zur Endkontrolle. Wir beleuchten außerdem spezielle HDI-Verfahren (High-Density Interconnect), die eine höhere Leiterbahndichte und kleinere Bauformen ermöglichen.

Standard-Leiterplatten-Herstellungsprozess: Die wichtigsten Schritte erklärt


Herstellungsprozess von mehrlagigen Leiterplatten

1. IL-Bildgebung (Inner Layer Imaging)

Mithilfe von Fotolithografieverfahren werden Schaltungsmuster auf die inneren Kupferschichten übertragen, wodurch die grundlegenden Leiterbahnen für mehrlagige Leiterplatten entstehen.

2. I/L AOI (Automatisierte optische Inspektion der inneren Schicht)

Hochauflösende AOI-Maschinen prüfen die inneren Lagen auf Kurzschlüsse, Unterbrechungen und Musterfehler und gewährleisten so eine präzise Schaltungstechnik vor der Laminierung.

3. B/Oxid (Schwarzoxid- oder Oxidationsbehandlung)

Um die Haftung der Prepreg-Schichten während der Laminierung zu verbessern, wird auf die inneren Kupferoberflächen eine Oxid- oder Schwarzoxidschicht aufgebracht.

4. Layup

Die inneren Schichten, das Prepreg (halbgehärtetes Harz) und die äußeren Kupferfolien werden entsprechend der Konstruktion gestapelt, um die Mehrschichtverklebung vorzubereiten.

5. Pressung (Laminierung)

Der Stapel wird in einer Laminierpresse hohen Temperaturen und hohem Druck ausgesetzt, wodurch die Schichten zu einem soliden mehrlagigen Leiterplattenkern verschmolzen werden.

6. Laserbohren

Mikrovias werden mit Lasern gebohrt, um äußere Schichten mit bestimmten inneren Schichten zu verbinden. Dies ist unerlässlich für BGA- (https://www.richpcba.com/bga-assembly-capability/ ) und HDI-Designs mit feiner Rasterteilung.

7. Bohren (mechanisch)

Größere Löcher wie Durchgangslöcher, Montagelöcher und Bauteilanschlüsse werden mit Hilfe von Hochgeschwindigkeitsbohrmaschinen hergestellt.

8. PTH (Plated Through Hole)

Durchkontaktierungen werden chemisch und elektrolytisch mit Kupfer beschichtet, um elektrische Verbindungen über mehrere Schichten hinweg herzustellen.

9. Plattenbeschichtung

Durch eine vollflächige Kupferplattierung wird die Dicke der Leiterbahnen erhöht und eine gleichmäßige Metallisierung über die Bohrlöcher hinweg gewährleistet.


Ablaufdiagramm des Kupferabscheidungsprozesses


10. O/L-Bildgebung (Äußere Schichtabbildung)

Die Schaltungsmuster werden, ähnlich wie bei der Abbildung der inneren Schicht, mittels Fotolack und UV-Belichtung auf die äußeren Kupferfolien übertragen.

11. Musterplattierung

Durch selektives Kupferplattieren werden Bereiche verstärkt, die die Leiterbahnen bilden, während im nächsten Schritt nicht benötigtes Kupfer entfernt wird.

12. SES-Ätzung

Chemische Ätzmittel lösen ungeschütztes Kupfer auf und hinterlassen präzise Schaltungsstrukturen, die dem Entwurfslayout entsprechen.

13. O/L AOI (Outer Layer AOI)

Die äußeren Schichten werden einer weiteren automatisierten optischen Inspektion unterzogen, um etwaige Defekte wie Unterbrechungen, Kurzschlüsse oder Fehlausrichtungen zu erkennen.

14. S/Mask (Lötstopplack-Applikation)

Eine Lötstoppmaske wird aufgetragen und durch Belichtung und Entwicklung strukturiert, um die Platine vor Oxidation zu schützen und Lötbrücken während der Montage zu verhindern.

15. Legende (Siebdruck)

Zur Unterstützung von Montage, Prüfung und Wartung werden Bauteilkennzeichnungen, Logos und Referenzbezeichnungen aufgedruckt.



16. Oberflächenbeschaffenheit (Oberflächenbehandlung)

Linker Zweig (Hochwertige Ausführungen):

●ENIG (Chemisch Nickel Immersion Gold)

ENEPIG (Chemisch Nickel Chemisch Palladium Immersionsgold)

Hartgold, Weichgold

HASL (Heißluft-Lötnivellierung) und LF-HASL (bleifrei)

Diese Oberflächenbehandlungen verbessern die Lötbarkeit, die Oxidationsbeständigkeit und die Kompatibilität beim Drahtbonden.

Rechter Zweig (Alternative Ausführungen):

Immersionszinn, Immersionssilber

OSP (Organische Lötbarkeitskonservierungsmittel)OSP

Diese sind kostengünstig und für RoHS-konforme Anwendungen geeignet.

17. Fräsen (CNC-Profilierung)

Mithilfe von CNC-Fräsmaschinen oder V-Cut-Maschinen wird die Leiterplatte in ihre endgültige Form gefräst und in einzelne Platinen zerlegt.

18. ET (Elektrische Prüfung)

Umfassende Kurzschluss- und Unterbrechungsprüfungen gewährleisten, dass alle Stromkreise ordnungsgemäß angeschlossen sind und keine elektrischen Defekte vorliegen.

19. FV (Abschließende Sichtprüfung)

Qualifizierte Prüfer führen eine manuelle Qualitätskontrolle durch, um vor dem Versand etwaige visuelle Mängel oder Unregelmäßigkeiten zu erkennen.

HDI-Leiterplattenfertigung: Optimierte Schritte für hochdichte Designs

HDI-Leiterplatten (High-Density Interconnect) gehen über herkömmliche Fertigungsprozesse hinaus, indem sie ultrafeine Leiterbahnen, Mikro-Vias und kompakte Bauformen ermöglichen, die für Smartphones, IoT-Geräte und fortschrittliche Computer benötigt werden.

Laserbohren

Zusätzliche Prozesse zum Aufbau von Schichten

1. Dielektrische Beschichtung für Aufbauschichten

 
Nach der ersten Laminierung erhalten HDI-Platinen eine zusätzliche dünne dielektrische Schicht (z. B. fotobildbares Polyimid oder Epoxidharz), um neue Schaltkreise zu isolieren.

2. Laserbohren von Blinddurchkontaktierungen

Mithilfe von hochpräzisen Lasern werden Blinddurchkontaktierungen gebohrt, um bestimmte Lagen zu verbinden, ohne den gesamten Schichtaufbau zu durchdringen. Dadurch werden Signalwege und Lagendichte optimiert.

3. Blind-Via-Metallisierung

Die Blind-Vias werden einer stromlosen Kupferplattierung und einer galvanischen Beschichtung unterzogen, um zuverlässige vertikale Verbindungen zwischen den einzelnen Schichten zu gewährleisten.

4. Aufbau von Leiterbahnen, Abbildung und Ätzung

Ähnlich wie bei der Abbildung und dem Ätzen der äußeren Schicht werden Aufbauschichten mittels Feinlinien-Photolithographie strukturiert, wodurch schmale Linienbreiten und -abstände ermöglicht werden.

5. Wiederholte Aufbauzyklen

Je nach Ausführung kann der Aufbauprozess mehrmals wiederholt werden, um fortgeschrittene HDI-Stack-Ups wie Any-Layer-Interconnects zu realisieren.

Leiterplattenbohrungen


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